在光刻工艺中，光刻胶、掩模版、显影液和去胶剂是最关键的几项耗材。

光刻胶如同芯片制造的 “画笔”，它对光线极为敏感，通过曝光、显

更多内容加载中...请稍候...

本站只支持手机浏览器访问，若您看到此段落，代表章节内容加载失败，请关闭浏览器的阅读模式、畅读模式、小说模式，以及关闭广告屏蔽功能，或复制网址到其他浏览器阅读！